RTP快速退火爐操作便捷,電熱元件采用紅外燈管,升溫速度快,節(jié)省時間,滑動法蘭使裝卸樣品過程簡化,方便操作,可快速得到實驗結果,取消了反復的法蘭安裝過程,減少了爐管因安裝造成的損壞。設備擁有快的升溫速率500℃/S,而且在燒結工藝運行完結,直接將試樣在高溫區(qū)取出。實現(xiàn)物理狀態(tài)下的快速降溫。腔體采用內(nèi)管進氣,外管出氣的氣路結構,使得反應氣氛與加工樣品充分而均勻地接觸。是CVD法生長大尺寸二維石墨烯的常用設備。測溫元件直接和試樣接觸,保證試樣溫度的準確性。
使用注意事項:
1、爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa。
2、由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加安全。
3、石英管的長時間使用溫度<1100℃。
4、進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。
5、當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)。
6、如對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生。
外觀展示圖
1、定期檢查溫度控制系統(tǒng)的電器連接部分的接觸是否良好,應特別注意加熱元件的各連接點的連接是否緊固。
2、冷爐使用時,由于爐膛是冷的,須大量吸熱,所以低溫段升溫速率不易過快,各溫度段的升溫速率差別不易太大,設置升溫速率時應充分考慮所燒結材料的物理化學性質(zhì),以免出現(xiàn)噴料現(xiàn)象,污染爐管。
3、使用過一段時間后,若真空度降低,可分別更換不銹鋼法蘭盤之間的耐溫硅膠圈或重新安裝不銹鋼法蘭盤或更換修理真空系統(tǒng),以提高系統(tǒng)的整體真空度。
4、使用或長時間不用后,要在120℃左右烘烤1小時,在300℃左右烘烤2小時后使用,以免造成爐膛開裂。爐溫盡量不要超過額定溫度,以免損壞加熱元件及爐襯。禁止向爐膛內(nèi)直接灌注各種液體及溶解金屬,保持爐內(nèi)的清潔。
5、爐膛若采用石英管,當溫度高于1000℃時,石英管的高溫部分會出現(xiàn)不透明現(xiàn)象,這叫失透是連熔石英管的一個固有缺陷,屬正?,F(xiàn)象。
6、設備在工作過程中,一般在300℃左右若控制偏差還不能消除,出現(xiàn)溫度顯示值與程序給定值不符或擺動過大,檢查參數(shù)“M5、P、t”設置是否準確。